专利中超硬超耐磨AR镀膜玻璃产品包括玻璃基材、若干氮化硅层、若干氧化硅层及AF膜层，若干所述氮化硅层与若干所述氧化硅层间隔设置。
图 发明专利中一种超硬超耐磨AR镀膜玻璃产品的结构示意图及实施例各层厚度尺寸表
S1，清洗玻璃基材，采用碱性药水与超声波清洗的方式对玻璃基材进行清洗，将玻璃基材1表面的油性物质和其它脏污，清除掉，保证后续的加工质量；
S3，覆膜保护，在清洗后的玻璃基材表面覆盖保护膜，作用是不会在空气当中吸取水份和污渍；
S3，玻璃基材定位，将玻璃基材固定在磁控溅射镀膜机台上，将玻璃基材表面的保护撕开；
S4，玻璃基材易挥发物清理，采用ICP离子及通入氩气的方式清理玻璃基材1表面的易挥发物；
S5，镀覆氮化硅层2，采用硅靶及氮气通过真空磁控溅射镀膜的方式镀覆氮化硅层。
具体地，对硅耙施加3KW电能量，开启氮气排放，流量220±10sccm。硅耙通电后会生产高温，通过物理过程轰击出原子，即硅耙升华成硅分子，通过磁控定向加速方式，硅分子被加速成高能粒子，硅分子穿过氮气层，氮气也随之被升温，硅分子、氮分子在高温下，发生化学反应形成氮化硅，化学反应式如下: 反应后的氮化硅，仍是速度极高的粒子，原子穿过真空，通过物理轰击，最后淀积在待镀产品表面；形成氮化硅层2；完成设定通气通电设定时间后，停止硅耙通电并且停止通入氮气，真空泵持续作业把没有反应的氮气以及没有淀积在产品表面的氮化硅蒸汽抽出磁控溅射镀膜机台内部；
S6，镀覆氧化硅层3，采用硅靶及氧气通过真空磁控溅射镀膜的方式镀氧化硅层3；
具体地，对硅耙施加3KW电能量，开启氧气排放，流量280±10sccm。硅耙通电后会生产高温，通过物理过程轰击出原子，即硅耙升华成硅硅分子，通过磁控定向加速方式，硅分子被加速成高能粒子，硅分子穿过氧气层，氧气也随之被升温，硅分子、氧分子在高温下，发生化学反应形成氧化硅，化学反应式：反应后的氧化硅，仍是速度极高的粒子，通过物理轰击，原子穿过真空，最后淀积在氮化硅层2表面；形成氧化硅层3。完成设定通气通电设定时间后，停止硅耙通电并且停止通入氧气，真空泵持续作业把没有反应的氧气以及没有淀积在产品表面的氧化硅抽出磁控溅射镀膜机台内部。
S7，不断重复步骤S5‑S6，使氮化硅层2与氧化硅层3在玻璃基材上间隔镀覆，其中，第一层镀层及最后一层镀层均为氮化硅层2，设置在玻璃基材表面的一层镀层为氮化硅层2，最外层镀层为氮化硅层2，获得玻璃半成品。
S8，二次清洗玻璃半成品，将完成S7的玻璃半成品从磁控溅射镀膜机台中取出，对玻璃半成品表面的氮化硅层2进行清理，具体地，采用碱性药水与超声波清洗的方式对玻璃玻璃半成品最外面一层氮化硅层2表面进行清洗。
S9，二次覆膜保护，在经过清理的最外面一层氮化硅层2表面覆盖保护膜，采用低转印保护膜覆盖在玻璃半成品的最外面一层氮化硅层2表面。
S10，镀覆氧化硅层3，将覆盖保护膜后的玻璃半成品放入磁控溅射镀膜机台中并固定，将最外面一次层氮化硅层2表面的保护膜撕开，采用硅靶及氧气通过真空磁控溅射镀膜的方式在最外面一层氮化硅层2表面镀上氧化硅层3，使得最外面一层镀层为氧化硅层3；
S11，镀覆AF膜层，对AF药丸通电，采用真空磁控溅射镀膜的方式在最外面一层氧化硅层3表面镀覆上一层AF膜层4，得到超硬超耐磨AR镀膜玻璃产品；
S12，成品清洗，对得到的超硬超耐磨AR镀膜玻璃产品进行清洗，得到成品。
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原文始发于微信公众号（艾邦加工展）：一种超硬超耐磨AR镀膜玻璃制备方法介绍
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